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HVP-B2000/IRE 納米刀脈沖源

HVP-B2000/IRE2KV 雙極性 復(fù)合陡脈沖電源

HVP-B200/IRE專為新一代不可逆電穿孔技術(shù)用于腫瘤消融的雙極性高壓納秒脈沖電源,廣泛應(yīng)用于IRE科研、以及商業(yè)的納米刀消融。

HVP-B2000/IRE通過專有的MARX專利新技術(shù),靈活輸出特有的從ns到us級的脈沖/脈沖串組合,其ns級高壓脈沖波形實現(xiàn)的復(fù)合陡脈沖電場為治療各樣的惡性腫瘤提供了高效、安全的手段。

  • 脈沖形式:正向單脈沖、負(fù)向單脈沖、雙向?qū)ΨQ脈沖、雙向不對稱脈沖、正向多脈沖、負(fù)向多脈沖、雙向?qū)ΨQ多脈沖、雙向不對稱多脈沖。
  • 脈沖幅度:±500 V~±2 kV;誤差±10%(額定負(fù)載 100Ω)。
  • 脈沖幅值衰減:100Ω 負(fù)載、2kV 幅度、300 ns 脈沖寬度、單脈沖,脈沖后沿幅度相比前沿幅度衰減<10%(100Ω 負(fù)載、2kV 幅度、300 ns 脈沖寬度、1s 的間隔,后一脈沖相比前一脈沖幅度衰減<5%)。
  • 脈沖寬度:100 ns~300 ns,誤差±10%。
  • 脈沖間隔:2.5 ms~1 s,誤差±10%。
  • 上升/下降沿時間:<100 ns。
  • 適配負(fù)載:50 Ohm – 300 Ohm
  • 觸發(fā)模式:內(nèi)部觸發(fā)、外部觸發(fā)
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Zhangnn
研發(fā)總監(jiān), 靈楓源